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勻膠機

簡要描述:Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時進行滴膠,“動態(tài)"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態(tài)滴膠尤其適用,不會產(chǎn)生針孔。

  • 產(chǎn)品型號:CIF Spin Coater
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-07-03
  • 訪  問  量:3769

詳細介紹

品牌CIF價格區(qū)間10萬-30萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,農(nóng)業(yè)
  CIF-Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時進行滴膠,“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態(tài)滴膠尤其適用,不會產(chǎn)生針孔。
 

Spin Coater

 

  滴膠之后,下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚,這個階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發(fā)速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小??焖傩D(zhuǎn)的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。
  一般來說,勻膠轉(zhuǎn)速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以建議給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。
 
  Spin Coater勻膠機產(chǎn)品特點:
  1.采用閉環(huán)控制伺服電機,數(shù)字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。
  2.5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,多100個階段。
  3.內(nèi)置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
  4、多重安全保護
  電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實驗人員安全。
  5.一機兩用,根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
  6.不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,PTFE旋涂腔體,聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤,PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
  7.勻膠機適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。
 
  CIF-Spin Coater勻膠機技術參數(shù):
 

型號

轉(zhuǎn)速(轉(zhuǎn)/分)

轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度

勻膠時間

旋涂基片尺寸mm

外型尺寸(LxWxH)mm

SC1

50-10000

±1%

0-2000S

圓片Φ5-Φ100,方片大100x100

310x260x250

 

 

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